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能讯半导体发布用于LTE基站的国产氮化镓微波晶体管
录入时间:2014/1/21 21:09:47

国内首家商用氮化镓(GaN)电子器件生产企业,苏州能讯高能半导体有限公司(Dynax Semiconductor Inc.)发布了新型氮化镓微波功放晶体管产品。这款产品将助力通讯系统设备制造商,针对当下热门的LTE移动通讯市场,提出更高效、更具性价比的解决方案。

与以往的LDMOS和GaAs相比,GaN功放管在功率密度、工作带宽和效率方面具有无与伦比的优势。这也使得GaN在移动互联网、卫星通讯、有线电视等等领域有着良好的市场前景,被业界认为射频功率器件的未来。

能讯半导体总裁张乃千博士指出:“公司一直致力GaN微波功放晶体管的研发与制造,我们相信GaN功放管的宽频带、高线性度和高效率等优异特性,能够为客户带来价值。”能讯半导体本次推出的这款产品为DX1H2527150F内匹配微波晶体管,其工作频率范围为2.5—2.7GHz,供电电压为48V,饱和功率为200瓦。 在WCDMA(带DPD)测试条件下,其输出功率达40W, ACLR小于-50dBc,效率高达33%。

该款产品是针对4G移动通讯的LTE基站应用而量身打造的,拥有杰出的线性度、效率和功率密度,采用这款产品实现的Doherty放大器表现出了非常优异的性能指标。得益于能讯公司先进的设计和优良的工艺,产品多项指标处于业界领先地位。同时,能讯公司承诺为客户提供及时响应、深度协助、提升竞争力的服务标准,为客户提供完整成熟的解决方案和充分的应用技术支持。


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